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公司名稱:上海添時科學儀器有限公司
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全自動清洗機 適用于2至6英寸晶圓的清洗工藝 6寸以下wafer全自動清洗工藝處理 適合產能要求較高的批量產線 可選配MES協議轉換模塊《查看更多》
清洗機 適用于5、6英寸Mask清洗工藝 可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體 自動清洗多種規格MASK掩膜光罩 可接受不同規格MASK清洗定制《查看更多》
半柜式/全柜式清洗機 適合于8英寸及以下晶圓的單片清洗工藝 根據客戶要求可選配高壓、兆聲、二流體等多種清洗工藝 不銹鋼半柜式、柜式柜體,觸摸式人機交互界面 耐腐蝕透明觀察窗,配置專業排風及排廢系統 可配置清洗液、氮氣溫控功能 可配置增壓泵高壓清洗 高精度清洗臂,可靈活設置清洗工藝《查看更多》
清洗機 適用于5、6英寸Mask清洗工藝 可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體 自動清洗多種規格MASK掩膜光罩 可接受不同規格MASK清洗定制《查看更多》
全自動噴膠機適用于8英寸及以下晶圓的自動噴膠工藝 全封閉結構,不銹鋼框架、鏡面不銹鋼面板 高精度旋轉加熱平臺,具有晶圓真空吸附及自動頂升功能 供膠系統采用微小流量供液系統,流速連續平穩,流量精確可調 高精度超聲波霧化噴嘴,霧化顆粒均勻,超聲波霧化功率可調 觸摸式人機交互界面,可實現配方編輯及運行狀態監控《查看更多》
全自動/軌道式去膠剝離機 適用于8英寸及以下規格晶圓的去膠剝離工藝(Liftoff工藝) 不銹鋼柜體,觸摸式人機交互界面 耐腐蝕透明觀察窗,配置專業排風及排廢系統 8寸以下化合物(鉭酸鋰等)全自動去膠剝離工藝處理 適合聲表濾波器(SAW)行業產能要求適中的批量產線 可選配MES協議轉換模塊《查看更多》
刻蝕機 適合于8英寸及以下晶圓的單片刻蝕工藝 可選耐腐蝕PP柜體 可按客戶需求定制設備規格 全自動擺臂、可配備多路刻蝕液 觸摸式人機交互界面,實時顯示設備運行狀態 可選蝕刻液加熱控溫及FFU功能 專用排風、排廢系統、提高設備的安全性《查看更多》
全自動標準8寸勻膠顯影機 適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝 最大設備配置:4套勻膠(顯影)、10套熱(冷)板單元 6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理 整機適合產能要求較高的批量產線 根據客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊 可選配MES協議轉換模塊《查看更多》
全自動標準2-6寸勻膠顯影機 適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝 最大設備配置:4套勻膠(顯影)、10套熱(冷)板單元 6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理 整機適合產能要求較高的批量產線 根據客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊 可選配MES協議轉換模塊《查看更多》
軌道式勻膠顯影機 適用于8英寸及以下晶圓的勻膠顯影工藝 最大設備配置:2套勻膠(顯影)單元、4套熱(冷)板單元 可選8寸以下多種wafer尺寸全自動勻膠/顯影,烘烤工藝處理 整機性價比高,適合產能要求適中的批量產線 根據客戶工藝需求可加裝等離子風棒等模塊 可選配MES協議轉換模塊《查看更多》
超大型勻膠機 適用于直徑450mm-2000mm的非規則重載基底勻膠工藝 可根據客戶基片規格及工藝定制設備 不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統 透明觀察窗,配置專業排風及排廢系統 可配置自動膠臂滴膠功能 觸摸式人機交互界面,可靈活設置100組工藝配方《查看更多》
大型勻膠/顯影機 適用于直徑450mm-800mm的非規則重載基底勻膠工藝 可根據客戶基片規格及工藝定制設備 不銹鋼全柜式柜體,多級安全系統 透明觀察窗,配置專業排風及排廢系統 可配置自動膠臂滴膠功能 觸摸式人機交互界面,可靈活設置100組工藝配方《查看更多》
勻烤膠一體機 適用于8英寸及以下晶圓的勻膠烤膠工藝 可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體 配置自動供膠系統,根據客戶工藝選擇供膠方式 觸摸式人機交互界面,實時顯示設備運行狀態 高精度伺服控制系統,滿足勻膠工藝要求 可選配去邊、背洗、光刻膠溫控等功能 專業勻膠腔體,通過氣流控制可有效提升工藝指標 可選配置空氣凈化單元(FFU)《查看更多》
顯影機 適用于8英寸及以下晶圓的勻膠工藝 可選耐腐蝕PP柜體或不銹鋼柜體 全自動顯影擺臂,可實現顯影液、去離子水、氮氣的自動噴灑及吹干 根據工藝要求可選擇柱形、扇形顯影噴嘴 高精度伺服控制系統,性能穩定 升降式顯影腔體,可有效防止顯影液體的飛濺 根據工藝需求可選配顯影液控溫、FFU等功能《查看更多》
噴膠機適用于8英寸及以下晶圓的自動噴膠工藝 全封閉結構,不銹鋼框架、鏡面不銹鋼面板 高精度旋轉加熱平臺,具有晶圓真空吸附及自動頂升功能 供膠系統采用微小流量供液系統,流速連續平穩,流量精確可調 高精度超聲波霧化噴嘴,霧化顆粒均勻,超聲波霧化功率可調 觸摸式人機交互界面,可實現配方編輯及運行狀態監控《查看更多》
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